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        SY-DT03 低溫等離子體處理儀

        1)技術參數:

        整機規格 700mm(W)×700mm(D)×1600 mm(H)
        腔體規格 Φ230mm×210mm
        腔體容積 8.5L
        電極規格 外置環形電極
        載物規格 單層,180mm×185mm(平放、懸掛均可)
        電源系統 RF射頻等離子發生源,全自動阻抗匹配;13.56MHz
        控制系統 觸摸屏+PLC自動控制
        真空系統 抽速:6L/S
        氣路系統 2路工作氣體、1路放空、1路接枝
        工作電壓 AC220V

        2)產品特點:
         RF射頻晶體管等離子發生源,全自動阻抗匹配。
         櫃式結構,真空泵內置,有效節約佔地面積。 
         萬向底輪設計,方便設備移動。
         高強度石英石玻璃腔體,易清潔、耐腐蝕。  
         置物方式多樣化,可平放、可懸掛。 
         外置環形電極,有效避免對腔體內的污染。 
         真彩色全中文界面觸摸屏,畫面清晰,操作方便。 
         PLC自動控制,功能齊全,所有運行參數可自行設置並監控,主要功能包括:手動模式/自動模式任意切換、PID自動調節、自動操作、自動報警功能(如:相序異常、真空泵異常、真空泵過載、氣體報警、放空報警、電源無功率輸出報警、真空度過高報警、真空度過低報警等)、實時監控畫面、配方管理及密碼管理功能。 

        3)應用範圍:
        適用於實驗各種材料的表面改性處理,包括:清洗、活化、刻蝕、沉積、接枝與聚合等。
        總部:
        業務負責人:沈經理
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